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北京瑞科中儀科技有限公司
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  • 氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植

    氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植是一種輔助生殖技術(shù),它涉及使用顯微鏡和精細的工具在體外進行胚胎的植入。這種技術(shù)通常用于體外受精(IVF)過程中,以提高受孕...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 13:30:27 對比
    化學氣相沉積系統(tǒng)
  • 工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設(shè)備

    工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設(shè)備簡要描述:SENTECH二維材料刻蝕沉積能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層,在樣品表面提供高通量的反...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 13:12:11 對比
    SENTECH二維材料刻蝕沉積SENTECH二維材料刻蝕
  • PE鉑金埃爾默ICPMS

    PE鉑金埃爾默ICPMS是美國鉑金埃爾默公司(PerkinElmer, Inc.)推出的一款高性能的電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(Inductively Couple...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 13:03:02 對比
    化學氣相沉積系統(tǒng)PE鉑金埃爾默ICPMS鉑金埃爾默
  • 氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射

    氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射簡要描述:化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設(shè)備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxN...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 12:52:26 對比
    化學氣相沉積系統(tǒng)
  • 便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)

    簡要描述:便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)是一種專門設(shè)計用于在超高真空環(huán)境中傳送和處理樣品的設(shè)備。這種設(shè)備通常包括一個或多個關(guān)鍵組成部分,如連接真空計的接口、反射式光...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:25:29 對比
    便攜式樣品傳送腔體便攜式樣品
  • 4/6英寸輻射式樣品臺系統(tǒng)

    簡要描述:4/6英寸輻射式樣品臺系統(tǒng)“可能指的是一種用于實驗或研究的設(shè)備或組件,特別是在材料科學、物理學、工程學或其他需要精確控制和分析樣品的環(huán)境中的設(shè)備。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:23:13 對比
    品臺系統(tǒng)樣品臺系統(tǒng)沉積系統(tǒng)
  • 插拔式加熱器沉積系統(tǒng)

    簡要描述:插拔式加熱器沉積系統(tǒng)是一種方便、實用的加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)和商業(yè)領(lǐng)域。這種加熱器通常具有緊湊的設(shè)計,可以方便地插入到電源插座中,提供快速、高效...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:20:46 對比
    插拔式加熱器沉積系統(tǒng)沉積系統(tǒng)
  • 脈沖激光沉積樣品臺

    簡要描述:脈沖激光沉積樣品臺是一種物理氣相沉積技術(shù),用于在襯底上生長高質(zhì)量的薄膜。脈沖激光沉積系統(tǒng)中的樣品臺是一個關(guān)鍵組件,用于支撐和加熱待沉積的樣品。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:18:25 對比
    脈沖激光沉積樣品臺沉積樣品臺
  • 脈沖激光沉積靶臺

    簡要描述:脈沖激光沉積靶臺的設(shè)計和應(yīng)用對于脈沖激光沉積系統(tǒng)的性能和實驗結(jié)果具有重要影響。通過綜合考慮穩(wěn)定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機制以及靶材旋轉(zhuǎn)等因...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:16:09 對比
    脈沖激光沉積靶臺激光沉積靶臺
  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路

    簡要描述:脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路是一個高度復雜和精密的系統(tǒng),需要各個部分的緊密配合和精確控制,才能制備出高質(zhì)量的薄膜。同時,隨著科技的發(fā)展,脈沖激光沉積技術(shù)也...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:13:50 對比
    脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路脈沖激光沉積系統(tǒng)
  • 單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)

    簡要描述:單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種的材料制備技術(shù),它利用脈沖激光的高能量密度來蒸發(fā)和電離靶材上的物質(zhì),并在基底上沉積形成各種物質(zhì)薄膜。這種系統(tǒng)通常包括一個沉...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:11:50 對比
    單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)激光沉積系統(tǒng)
  • 雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)

    簡要描述:雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)(Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System)是一種的薄膜制備技術(shù),它結(jié)合了脈沖激光...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:09:41 對比
    雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)激光沉積系統(tǒng)
  • 電漿原子層沉積設(shè)備

    簡要描述:電漿原子層沉積設(shè)備是一種基于常規(guī)ALD的方法,其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件,而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:07:13 對比
    電漿原子層沉積設(shè)備原子層沉積設(shè)備
  • 原子層沉積設(shè)備2

    簡要描述:原子層沉積設(shè)備2為一種氣相化學沉積技術(shù)。大多數(shù)的ALD反應(yīng),將使用兩種化學物質(zhì)稱為前驅(qū)物。這些前驅(qū)物以連續(xù)且自限的方式與材料表面進行反應(yīng)。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:05:31 對比
    原子層沉積設(shè)備2沉積設(shè)備
  • 原子層沉積系統(tǒng)

    簡要描述:原子層沉積系統(tǒng)是基于順序使用氣相化學過程的最重要技術(shù)之一;它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積(CVD)。多數(shù)ALD反應(yīng)使用兩種或更多種化學物質(zhì)(稱...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:03:52 對比
    原子層沉積系統(tǒng)沉積系統(tǒng)
  • 批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備

    簡要描述:批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備為一種使用化學氣相沉積技術(shù),可為沉積反應(yīng)提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質(zhì)量。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:01:55 對比
    批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備
  • FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積

    簡要描述:FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積:隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加,其制造設(shè)備也變得更大,需要越來越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對中小...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 9:00:21 對比
    FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積
  • 感應(yīng)耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備

    簡要描述:感應(yīng)耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備是一種使用ICP的化學氣相沉積技術(shù),可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與PECVD方法相比,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 8:58:12 對比
    感應(yīng)耦合電漿化學氣相沉積設(shè)備化學氣相沉積設(shè)備
  • 低真空化學氣相沉積設(shè)備

    簡要描述:低真空化學氣相沉積設(shè)備是一種化學氣相沉積技術(shù),利用熱能在基板表面上引發(fā)前驅(qū)氣體的反應(yīng)。表面的反應(yīng)是形成固化材料的原因。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 8:55:58 對比
    低真空化學氣相沉積設(shè)備
  • 電漿輔助式化學氣相沉積設(shè)備

    簡要描述:電漿輔助式化學氣相沉積設(shè)備是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術(shù),可為沉積反應(yīng)提供一些能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,PECVD可以在較低的溫度下沉...

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2025/5/27 8:54:27 對比
    電漿輔助式化學氣相沉積設(shè)備

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